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更新時(shí)間：2026-03-13 
瀏覽次數(shù)：63Hellma CaF2（氟化鈣）晶體是德國Hellma Materials公司研發(fā)的高性能光學(xué)材料，憑借寬譜透射、低色散及高激光耐久性等特性，成為半導(dǎo)體微光刻、高功率激光、空間光學(xué)等領(lǐng)域的重要應(yīng)用材料。該晶體依托德國精密制造工藝，在光學(xué)精度和環(huán)境適應(yīng)性上表現(xiàn)出穩(wěn)定的性能優(yōu)勢，滿足光學(xué)系統(tǒng)的嚴(yán)苛使用需求。
| 透射波段 | 130nm–8μm |
| 折射率（nd） | 1.43384 |
| 阿貝數(shù)（vd） | 95.23 |
| 單晶直徑 | 250mm |
| 熔點(diǎn) | 1418°C |
Hellma CaF2晶體顯著的優(yōu)勢是寬譜透射性能，覆蓋深紫外到紅外全光譜，在193nm、248nm等準(zhǔn)分子激光關(guān)鍵波長下，10mm厚度晶體內(nèi)部透射率可達(dá)99.4%以上，適配半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的光束傳輸需求。其低色散特性可有效減少光學(xué)色差，阿貝數(shù)遠(yuǎn)超普通光學(xué)玻璃，保障高精度成像效果。
在制造工藝上，Hellma采用真空Stockbarger技術(shù)生長高純度單晶，可制備440mm直徑多晶，折射率均勻性控制在15ppm以內(nèi)，應(yīng)力雙折射低于3nm/cm RMS。該晶體具備良好的環(huán)境適應(yīng)性，熱導(dǎo)率9.71 W/(m·K)，可耐受太空輻射、高能激光脈沖等工況，廣泛應(yīng)用于7nm及以下制程光刻機(jī)、天文觀測設(shè)備、高功率激光系統(tǒng)等場景，為光學(xué)裝備提供穩(wěn)定的材料支撐。
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